提拉鍍膜法是種廣泛應(yīng)用于科研方面薄膜制備的方法。這樣可以在硅片或者圓柱形基片上鍍上均勻的薄膜。而在業(yè)商，更多的則使用旋涂鍍膜法。

提拉機(jī)是門用于薄膜制備可行性研究的鍍膜具，它采用了浸泡提拉的鍍膜。

過程

提拉鍍膜法就是把需要鍍膜的基片浸入溶液中，通過預(yù)設(shè)置的速度，在定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉出來。

提拉過程可以分為5個(gè)步驟:

1 浸入溶液:將基片以預(yù)設(shè)定的速度(無何抖動(dòng))侵入鍍膜溶液中

2 浸泡:讓基片在溶液中浸泡定的時(shí)間，然后準(zhǔn)備提拉

3 沉積:在提拉的過程中，薄膜會(huì)沉積在基片上。提拉的速度穩(wěn)定，避免何抖動(dòng)。提拉速度是膜層厚度個(gè)重要的決定因素。(提拉速度越快，膜層厚度越厚)

4 溢:多余的溶液會(huì)在提拉的過程中從基片表面上掉

5 揮發(fā):溶劑從溶液中揮發(fā)掉，在基片表面上形成薄膜。易揮發(fā)的溶劑如酒。揮發(fā)過程在沉積和溢的過程中會(huì)同時(shí)行。

因素

1 提拉速度(提拉的速度非常穩(wěn)定，避免抖動(dòng))

2 固體含量

3 液體粘度決定